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第二百四十四章 制裁?那就搞X光刻机!

    【fbi突然出动,抓住了潜伏其内十年的卧底。】

    【fbi抓住一名卧底,疑似华国人?】

    【近日fbi抓住一名卧底,在庭审前日晚畏罪自杀】

    【卧底自杀?还是另有原因!】

    ……

    一条条相关的新闻,开始争抢起了各种头条。

    这样的新闻,不得不引起人们的注意,卧底?

    还有卧底畏罪自杀?

    对于这样的消息,每个看到的人都感到震惊。

    华国国内,在网络上讨论的人也很多,都不知道这个卧底是否真的是他们的人。

    毕竟这些都只是从国外传出的消息,没有人知道详情。

    而相比较这个政治上的事情,对于半导体界人来说,却更加关注另外一条消息。

    国外的制裁技术又加上了几条,一条,准激光发射器。

    这个东西,是光刻机光源中十分必要的一个部件。

    其主要就是利用二氧化碳激光器发射出极高能的激光,输出超过30kw平均功率的激光束,脉冲峰值最高可达几兆瓦,然后如此高能的激光,击打在不断从上方滴下的锡珠上,然后使其发射出波长为13.5nm的极紫外光。

    而想要在二氧化碳激光器上实现如此高的功率,普通的技术完全行不通,而华国当前的二氧化碳激光器在功率上并不能达到这种要求,而需要知道的是,这个功率,最终影响的就是euv光源的实际功率。

    如果euv光源没有足够大的功率,对他们的影响,十分之大。

    此外,还有其他几种euv光源中较为重要的传感器也遭到了制裁。

    这样一来,他们再想要研发光刻机,就必须先在这些方面实现突破,否则光源搞不出来,全部都白搭。

    一时之间,华国半导体界,又掀起了一片唱衰的声音。

    要是继续一个一个地搞下去,他们得花多少时间?

    到时候国外说不定早就找到了能够突破现有光刻机的技术了。

    而除了这些和光刻机技术有关的东西之外,国外又在原材料之一的光掩膜版上面进行了制裁,光掩膜版是光刻流程中同样十分重要的东西,只有通过掩膜版,极紫外光才能实现直接光刻。

    而现在主流掩膜版中,都是以石英作为材料的,而这次主要制裁项目,就是这种石英材料,而这种石英材料的生产工艺难度十分高,国内一直都需要进口国外的。

    而现在他们买不了石英材料了,就等于说国内掩膜版厂商,全部都直接废了。

    这几招下来,国内半导体产业链便再一次遭到了重创。

    ……

    “妈的,那帮洋鬼子,肯定是看我们又搞出了顶级的镜面抛光技术后,想出来的坏事情,真是太不要脸了!”

    定光研究所,林晓的办公室中,罗明愤愤不平地说道。

    但林晓却只是静静地坐在自己的办公桌前,思考着问题。

    而罗明还气不过,继续说道:“他们还抓了一个卧底,声称是我们的人,然后还宣传他在监狱里面上吊自杀?明显就是再给我们示威呢!监狱里面能刚好有个绳子让人上吊吗?”

    “呸,恶心!”

    而听到罗明这么说,林晓却是眉头一皱:“卧底?上吊自杀?”

    “是啊,国外的消息,都传回来了,简直是太可恶了!”

    罗明无比气愤地说道。

    但是林晓却倏然站了起来。

    卧底?

    然后恰好在这个时间节点被发现?

    他的记忆力很好,同时联想能力也很强,他立马想到了当初沃尔夫奖的事情。

    不就是有国安的人告诉了他,收到了情报,让他不要去领奖了吗?

    当时他也想过那些情报是从哪来的,但是并没有思考太多,现在想一想,是否就是因为有这样的卧底为他们传来的消息?

    他呼吸不由急促了起来,如果那个卧底真的是他们的人,也真的是因为他而被发现。

    那他……

    旁边罗明见到林晓之前听到被制裁后还不慌不忙的,结果一提到那个被抓的卧底事情,就变成了这副样子,不由疑惑道:“林教授,怎么了?”

    林晓摆了摆手,沉沉地说道:“我需要打个电话,麻烦你了。”

    罗明知道林晓是希望自己回避一下,他点了点头,“好的,你打吧,要是有什么事情的话,就给我说。”

    “嗯。”

    林晓点点头,看着罗明离开后,他拿出手机,想了想,最后找到了当初那个给他打电话的国安人员的号码,虽然已经过了几个月,不过他还是记得这个电话是什么时候打给他的,在通讯录里面翻一翻就找到了。

    而后,他拨了过去。

    过去了大概一会儿,电话接通了,对方的声音显然有些惊讶:“是林教授吗?”

    “是我,你是国安的同志吧?”

    “是的,请问您打电话来是有什么事情吗?”

    “新闻上那个被抓住的卧底,是不是当初帮助过我的人?”

    林晓问道,心中十分紧张。

    “呃……这个你不用想太多,我们是不会往国外派遣间谍的。”

    这位国安的工作人员给出了一个很官方的回答。

    林晓没有放弃,仍然问道:“我知道,但是我只是想确认一下,他是不是帮助过我的人,不会涉及机密,当然,我也不可能泄露这种机密。”

    听到林晓这么说,这名工作人员哑然片刻,随后道:“林教授,麻烦您先等等,我去问问我的领导,待会儿我再给你回电话。”

    “好的,麻烦你了。”

    林晓说道。

    而后挂了电话,他开始了等待。

    等待的过程中,他只能在心中期盼,对方给出他一个否决的答案,只是他联想得太多。

    只是他的心中始终有一种不安的感觉,让他认为自己十分有必要确定这件事情。

    就这样,时间很快过去,终于,他的手机再次响了起来。

    他连忙接通,问道:“怎么样?”

    对方说道:“林教授,我只能告诉您一句话,当初帮助您的人,确实在近日于狱中上吊身亡,但关于他是不是新闻上那个人,抱歉,我不能透露给你。”

    林晓沉默了下来。

    对方没有承认这两者之间的联系,无非就是因为保密的缘故,不便透露。

    但显然,对方已经暗示了。

    近日于狱中上吊身亡,除了这个人,还能有谁呢?

    对方听到他一直没有说话,便说道:“林教授,如果你没有什么事情的话,我就挂了,其实不瞒你说,待会儿我们要去吊唁一位牺牲的同志,和你一样,我们都很伤心。”

    林晓这时终于开口:“那个帮助我的人,他的家人是否安好?我能为他的家人做点什么吗?”

    “这点您放心,当初他帮助了你,就是帮助了我们,我们也有相应措施。”

    “好的,那就……感谢你们了。”

    “呵呵,保护您这样重要的科学家,是我们的使命,我们这行人都有一种宿命感,您也不需要太过难过,如果可以的话,我们更加期待的是,您能够在您的事业中,做出更多的事迹,这样,我们的使命,才有意义。”

    “我会的。”

    “嗯,那就不打扰您了,再见。”

    “再见。”

    电话结束了。

    林晓握住手机,什么事情都没有做。

    办公室中一片沉凝。

    直到半晌后,他终于回过了神,但却是闭上了眼。

    “系统。”

    “使用【机械整体优化指导】,对当前euv光刻机,优化方向为,x光刻机,整体思路为,利用x光刻机直写式优势,通过晶体衍射效应,进而实现对x光的缩放效果,从而实现大规模生产。”

    “正在进行优化,请稍后……”

    林晓再次睁开了眼睛。

    逝者已矣,生者如斯。

    那位国安的工作人员说得很好,他们期待着他能够做出更多,以及更加重要的成就,那才显得他们的使命有意义。

    那他,也不能辜负了他们的期望,尤其是那位因他而死的同志。

    国外要在euv光源上进行制裁,那他就换x光。

    国外要在掩膜版上进行制裁,那他就搞无掩模x光刻机。

    他不会因为敌人的所作所为生气,他只会让那些敌人们后悔。

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